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功能特点
◆ 结构设计合理,技术成熟
◆ 操作简单,维修方便,整机运行稳定可靠
技术参数
◆ 晶圆尺寸适用于2-12 寸生产线
◆ 碎片率万分之一
应用领域
◆ SPM 酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE 蚀刻、匀胶等各种制程工艺晶圆片甩干
设备功能
◆ 设备分2工位、4工位与6工位,可清洗2-12 寸硅片、氮化钾、砷化镓、蓝宝石、半导体、LED、太阳
能等湿法工艺甩干旋干,实现包括清洗、甩干、氮气烘干、工作腔干燥。
工艺参数
工艺参数 | 时间 | 转速 |
冲洗(B 型) | 0-999s | 0-800r/min |
吹净(B 型) | 0-999s | 0-800r/min |
甩干一(B型) | 0-999s | 0-800r/min |
甩干二(B 型) | 0-999s | 0-800r/min |
厂务条件
电压 | 单腔功率 | 氮气压力 | 氮气流量 | 纯水压力 | 纯水流量 | 氮气接口 | 纯水接口 | 排水口径 | 排气口径 |
AC380V/50Hz | 5KW | 0.25-0.4MPa | 180-250L/min | 0.2-0.3MPa | 7-12L/min | 3/8 | 3/8 | DN32 | DN110 |
功能特点
◆ 采用PLC 智能控制,使所有的操作可靠,程序智能化。
◆ 采用变频电机皮带传动,低维护。
◆ 转轴氮气密封,迷宫式设计,保证设备运行时腔内与外部环境隔离。
◆ PTFE 气控阀,洁净管件。
◆ 主要部件采用质优不锈钢SUS304 材料。内部框架采用国标不锈方钢,耐腐蚀,耐锈蚀。外
观设计新颖、人性化设计,操作方便简单。
◆ 旋转机构经精密的动平衡校验,主框架采用承载式结构,保证系统工作时平衡、稳定、减
少振源的产生,大幅度降低碎片率。
◆ 盖顶采用进口硅胶加热辅助系统,烘干后干燥无滴水。
◆ 采用电加热系统,升温快,易控制,温度稳定。
功能特点
◆ 结构设计合理,技术成熟
◆ 操作简单,维修方便,整机运行稳定可靠
技术参数
◆ 晶圆尺寸适用于2-12 寸生产线
◆ 碎片率万分之一
应用领域
◆ SPM 酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE 蚀刻、匀胶等各种制程工艺晶圆片甩干
设备功能
◆ 设备分2工位、4工位与6工位,可清洗2-12 寸硅片、氮化钾、砷化镓、蓝宝石、半导体、LED、太阳
能等湿法工艺甩干旋干,实现包括清洗、甩干、氮气烘干、工作腔干燥。
工艺参数
工艺参数 | 时间 | 转速 |
冲洗(B 型) | 0-999s | 0-800r/min |
吹净(B 型) | 0-999s | 0-800r/min |
甩干一(B型) | 0-999s | 0-800r/min |
甩干二(B 型) | 0-999s | 0-800r/min |
厂务条件
电压 | 单腔功率 | 氮气压力 | 氮气流量 | 纯水压力 | 纯水流量 | 氮气接口 | 纯水接口 | 排水口径 | 排气口径 |
AC380V/50Hz | 5KW | 0.25-0.4MPa | 180-250L/min | 0.2-0.3MPa | 7-12L/min | 3/8 | 3/8 | DN32 | DN110 |
功能特点
◆ 采用PLC 智能控制,使所有的操作可靠,程序智能化。
◆ 采用变频电机皮带传动,低维护。
◆ 转轴氮气密封,迷宫式设计,保证设备运行时腔内与外部环境隔离。
◆ PTFE 气控阀,洁净管件。
◆ 主要部件采用质优不锈钢SUS304 材料。内部框架采用国标不锈方钢,耐腐蚀,耐锈蚀。外
观设计新颖、人性化设计,操作方便简单。
◆ 旋转机构经精密的动平衡校验,主框架采用承载式结构,保证系统工作时平衡、稳定、减
少振源的产生,大幅度降低碎片率。
◆ 盖顶采用进口硅胶加热辅助系统,烘干后干燥无滴水。
◆ 采用电加热系统,升温快,易控制,温度稳定。
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